力晶半导体(Powrchip Seimconductor)日前与日本Elpida及三菱电机(Mitsubishi)结成策略结盟，未来将在0.13/0.12、0.11/0.1微米的技术上合作生产DRAM产品。
此次合作源自于三菱电机欲将其DRAM部门移交给Elpida，而三菱电机过去在台湾DRAM的合作对象就是力晶，因此在移交技术及人员的同时，也将合作关系转移给了Elpida。两家日本公司的DRAM转移事宜并将于明年四月完成。
至于结盟后，力晶将提供多少产能予Elpida，力晶总经理蔡国智表示，“与三菱电机合作时差不多。”同时，他表示力晶明年将可有5-6%的市场占有率。关于力晶6月已经试产的12英寸晶圆厂进度，该公司营运副总陈正坤表示，“目前处于良率确认中，11月可以小量产，至于大量产出要到明年第二季度。”
力晶12英寸晶圆厂是以0.13微米工艺试产256Mb DRAM，目前良率约在50%，陈正坤表示到11月约可达到60%的良率后开始量产。力晶目前的0.13技术仍是延用三菱电机技术转移的技术，同时也会支持到0.12微米，而与Elpida的合作将从0.11及0.1微米起步，要到2004年上半年才开始进行技转。目前Elpida所需的DRAM产品，力晶则以三菱电机的技术来生产。
分拆出DRAM部门的三菱电机则继续在System LSI方面与力晶合作，陈正坤表示，力晶已在为三菱电机试产两项DVD相关的产品，而过去大约也有1000至2000片的合作空间，至于未来则要看三菱电机的业务需求而定。
Elpida方面，安井德政表示，“整合了三菱电机后，Elpida成为日本唯一的一家DRAM公司。”目前该公司的全球市占率约有8.5%，其订定的目标是15%，而安井德政认为明年应该可以做到13%。至于Elpida自己的12英寸晶圆厂的进度则是，计划10月试产，明年量产，初期月产能将有3000片。